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POF膜特点与优点：1.POF薄而韧,厚度均匀,防潮性佳,质地柔软.抗拉强度高,耐撕裂强度大,收缩率可调.因LLDPE存在,耐揉搓性更好.2.POF耐寒性极优,-50℃不硬不脆,可用于冷冻食品包装.收缩包装后,-50℃--95℃被包装物长期存放,稳定不变.有静电和防雾处理,不易污染灰尘,可保持产品清洁亮丽.3.安全性POF收缩包装后,封口处四角柔软,不会割伤人手,也耐揉搓.4.环保卫生POF无毒性，加工时不产生有毒气味，符合美国FDA和USDA标准。 次数用完API KEY 超过次数限制

可是由于别的原因，高温蒸着通常是不受欢迎的，而离子助镀已成为一个普遍采用的方法其在低温甚至在室温时就可以得到比较高的折射，通常需要提供足够的氧气以避免（因为有吸收则降低透过率），但是可能也需要降低吸收而增大镭射损坏临界值（LDT).TiO2的折射率与真空度和蒸发速度有很大的关系，但是经过充分预熔和IAD助镀可以解决这一难题，所以在可见光和近红外线光谱中，TiO2很受到人们的欢迎. 在IAD助镀TiO2时，使用屏蔽栅式离子源蒸发则需要200EV，而用无屏蔽栅式离子源蒸发时则需要333EV或者更少一些，在那里平均能量估计大约是驱动电压的60%，如果离子能量超过以上数值，TiO2将有吸收.而SiO2有电子***蒸发可以提供600EV碰撞（离子辐射）能量而没有什么不良效应. 次数用完API KEY 超过次数限制

二氧化硅

名称： 二氧化硅（SiO2）

经验告诉我们，氧离子助镀（IAD)SiO将是SiO2薄膜可再现性问题的一个解决方法，并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.

SiO2薄膜如果压力过大，薄膜将有气孔并且易碎，相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大，需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性

SiO2用于防反膜，冷光膜，滤光片，绝缘膜，眼镜膜，紫外膜.

透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量

200--2000 1.46 1800-2200 电子***，防反膜，增透 少，升华

无色颗粒状，折射率稳定，放气量少,和OS-10等高折射率材料组合制备截止膜，滤光片等. 次数用完API KEY 超过次数限制